金屬硅細粉是集成電路、電子元件必不可少的原材料，然而，要是硅粉中含有太多的磷雜質(zhì)，則做不了半導體器件了。那么，我們應如何去除硅粉中的磷雜質(zhì)呢？對于這一問題，國興冶金耐材有限公司為我們做出了解答，下面我們一起來了解一下。
      1.將金屬硅粉置于感應爐中，并通入氮氣，使其在1460～1500℃下熔化；
      2.將體積比為1.2:1～1:1.5的二氧化硅和碳酸鋰置于另一個坩堝中，在1440～1460℃下熔化；
      3.將熔化好的二氧化硅-碳酸鋰混合物直接倒入熔化的硅液中，30分鐘后停爐；
      4.待冷卻后，硅與渣會自然分離，得到破碎硅；
      5.將得到的破碎硅用1:6的HF酸與HCl浸泡15～30小時，清除破碎硅中的磷與其他金屬雜質(zhì)；
      6.將得到的硅進行重熔和定向凝固。
      以上就是去除硅粉中的磷雜質(zhì)的方法，在以后的工作中金屬硅細粉中含有磷等雜質(zhì)時，我們可采用上述方法將其去除，進而提高硅粉的純度，使其在集成電路，電子元件等領域發(fā)揮高效作用。想了解更多關于這方面的信息請多多關注我們的網(wǎng)站，或者您也可以直接致電我們，我們會竭誠為您服務。